RTP快速退火爐原理
RTP快速退火爐（Rapid Thermal Processding簡稱RTP）是一種用于半導體器件制造和材料研究的設備，通過控制加熱和冷卻過程中的溫度和時間，從而實現(xiàn)對材料的精準控制和優(yōu)化處理。使用上下兩層紅外鹵素燈管作為熱源加熱，內部石英腔體保溫隔熱，腔體外殼為水冷鋁合金，使得制品加熱均勻，且表面溫度低。
RTP快速退火爐應用
RTP快速退火爐是一種特殊的加熱設備，能在短時間內將材料迅速加熱到所需溫度并通過快速冷卻的方式實現(xiàn)對材料的熱處理。RTP快速退火爐常用于離子注入退火、ITO鍍膜后快速退火、氧化物和氮化物生長、MEMS工藝、IC晶圓、化合物半導體等。
RTP桌面型快速退火爐
RTP-Table-6為桌面式6英寸晶圓快速退火爐，使用上下兩層紅外鹵素燈管作為熱源加熱內部石英腔體保溫隔熱，腔體外殼為水冷鋁合金，使得制品加熱均勻，且表面溫度低。RTP-Table-6采用PID控制，系統(tǒng)能快速調節(jié)紅外鹵素燈管的輸出功率，控溫更加精準。
